1. Id-densità tal-kurrent: ġeneralment tirreferi għall-valur tal-kurrent li jgħaddi mill-wiċċ tal-erja tal-unità tal-elettrodu (bħal partijiet tal-electroplating), u A / dm2 normalment jintuża bħala l-unità tal-kejl.
2. Polarizzazzjoni: Normalment tirreferi għall-fenomenu li l-potenzjal tal-elettrodu jiddevja mill-potenzjal medju tiegħu meta kurrent dirett jgħaddi mill-elettrodu. Taħt il-benefiċċju tal-kurrent, il-potenzjal tal-elettrodu tal-anodu jinbidel fid-direzzjoni pożittiva, li tissejjaħ polarizzazzjoni anodika; il-potenzjal tal-elettrodu tal-katodu jinbidel għad-direzzjoni negattiva, li tissejjaħ polarizzazzjoni katodika.
3. Tħaffir ta 'l-idroġenu: Fil-proċess ta' tneħħija tal-grass elettrokimiku, korrużjoni qawwija, electroplating ta 'kromju iebes, eċċ., L-idroġenu rkuprat fuq naħa waħda jippenetra l-metall bażi jew il-kisi fl-istat ta' l-idroġenu atomiku biex jikkawża stress, li jagħmel il-metall bażi u l-kisi iebes Il-fenomenu tal-fraġilità jseħħ minħabba tnaqqis.
4. Ħruxija tal-kisi: minħabba kontroll mhux xieraq tal-konċentrazzjoni tal-melħ prinċipali, pH tal-banju, temperatura u densità tal-kurrent, kif ukoll impuritajiet solidi eċċessivi, il-kristalli tal-kisi huma ħorox u żgħar.
5. Pockmarks: minħabba metall tqil eċċessiv jew impuritajiet organiċi fil-banju ta 'l-electroplating iebes tal-kromju, aġent li jxarrab insuffiċjenti, valur ta' pH anormali u raġunijiet oħra, is-saff tal-kisi jidher ħofor rqaq, sporġenzi qawwija jew pori kbar.
6. Fjoritura: Minħabba l-aġent ta 'żieda, speċjalment l-iżbilanċ tal-aġent li jdawwal, wisq impuritajiet organiċi, tindif ħażin bejn il-proċessi, u kontroll mhux xieraq tat-temperatura u d-densità tal-kurrent, il-kulur tal-kisi huwa irregolari, biċċiet żgħar ta' griż, u skur.
https://www.xhychromerod.com/